第２回 超音波技術の説明
１）超音波専用水槽を使用しています
２）水槽の設置は
１：専用部材を使用
２：固有振動と超音波周波数・出力の最適化を行っています
３）水槽内に1台の超音波振動子を設置しています
４）脱気・マイクロバブル発生装置を１時間運転した状態です
（溶存酸素濃度は５－６ｍｇ／ｌ）
５）水槽の（角部）４ヶ所にガラス容器を設置しています
６）超音波振動子（４０ｋＨｚ ３００Ｗ）を動作させた状態です
水槽の表面改質を行っている状態です
ガラス容器による
超音波の反射・屈折・透過により
液循環による淀みの部分に対して
均一な安定した超音波照射を実現させています
（超音波、液循環ポンプの発振・運転制御がノウハウです）
液面の大きな波は
水槽の強度不足が原因です
超音波出力を下げることが効果的な超音波の利用状態になります
以上 ２０１２．１．６ 第２回 超音波技術の説明
上記の内容について
興味のある方はメールで連絡してください
超音波システム研究所
E-mail：uss1@island.dti.ne.jp
URL：http://www.green.dti.ne.jp/aabccdx/
0 件のコメント:
コメントを投稿